阅读设置
样品与前置条件
- 统一处理与分割的多状态或同区取向图。
- 材料变形、热处理历史和代表性组织证据。
建议工作流
- 先描述晶粒形貌、内部梯度和边界网络,不预先将所有点贴标签。
- 按同一规则计算 GOS/GAM,并检查与尺寸和像素数的关系。
- 根据材料与实际分布提出候选阈值,明确亚结构与未定规则。
- 计算按面积与按数量的比例,二者分别命名。
- 检查阈值附近分布,说明微小阈值变化是否改变大量面积。
- 核对候选区域的热过程、形貌或独立缺陷证据,区分回复和再结晶。
- 分别计算各候选区域织构,将数量增加、长大与整体组分变化分开。
结果怎么解释
- 低 GOS 的小区域可能只是尺度不足。
- 分类比例的精确小数不表示历史判定同样精确。
局限与常见误区
- 不存在适用于所有材料的通用 GOS 再结晶阈值。
- 强平滑可能同时降低多个同源指标。
标准与权威来源
请在正式试验前核对适用产品标准、设备 SOP 和标准的现行版本。
Olaf Engler; Stefan Zaefferer; Valerie Randle:《Introduction to Texture Analysis: Macrotexture, Microtexture, and Orientation Mapping》(2024,第 3 版)对应原理与参数解释见本专题完整推导正文;软件操作以所用版本帮助为准。↗Valerie Randle:《Microtexture Determination and Its Applications》(2003,第 2 版;所供本含 2008 年平装版说明)对应原理与参数解释见本专题完整推导正文;软件操作以所用版本帮助为准。↗Stuart I. Wright; Matthew M. Nowell; David P. Field (2011). A Review of Strain Analysis Using Electron Backscatter Diffraction对应原理与参数解释见本专题完整推导正文;软件操作以所用版本帮助为准。↗