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01

样品与前置条件

  1. 原始高质量花样、稳定几何与同晶粒参考。
  2. 相应弹性常数、参考系、表面条件和误差定义。
02

建议工作流

  1. 选择并说明参考花样，不以低 KAM 自动等同于无应力。
  2. 确认 PC 与探测器畸变，设相关窗口并检查独立特征。
  3. 提取亚像素位移；大转动时按适用算法先重映射。
  4. 用窗口质量加权拟合畸变，检查残差与空间异常。
  5. 分解 ε 与 ω，明确张量剪切和工程剪切约定。
  6. 写清静水分量处理及表面牵引等假设，旋转单晶刚度后计算应力。
  7. 先检查各分量再画等效应力，附参考、质量和无效掩膜。
03

结果怎么解释

  1. 相对应变与绝对应变不同，精密度与准确度也不同。
  2. von Mises 图不保留完整拉压与方向信息。
04

局限与常见误区

  1. 只有 Euler 角通常无法补做花样互相关 HR-EBSD。
  2. 表面制备与参考残余应变可能产生系统偏差。

标准与权威来源

请在正式试验前核对适用产品标准、设备 SOP 和标准的现行版本。